Resumen
Se llevó a cabo el análisis topológico del Laplaciano de la densidad electrónica para la superficie (100) del MoS2, pura y dopada con Ni o Fe. Se encontró que la presencia de los dopantes induce diferentes cambios sobre la morfología de los grafos del átomo de Mo más externo. Cuando el átomo de Ni está presente, se observa un sitio de desconcentración de carga, idealmente expuesto para la entrada de cualquiera de los máximos de concentración, o vértices, del grafo del S del tiofeno lo que promovería la interacción tipo ácido-base Lewis. En cambio cuando el Fe es el dopante, el átomo de Mo expone un máximo de concentración de carga, lo cual desfavorece la interacción con el átomo de azufre de la molécula de tiofeno.

Resumen
Se llevó a cabo un estudio teórico-computacional para verificar el papel desempeñado por los intermediarios hidroboranos que se forman durante el proceso de generación de hidruros volátiles, mediante su reacción con BH–4/H2O/HCl. Sobre la base de métodos computacionales, se ha encontrado que el intermediario del tipo H2O-BH(OH)2 ha demostrado ser la especie energéticamente más favorable. La estabilidad de los hidruros de metales de transición se calculó en base a su estructura electrónica, lo cual es esencial para determinar la energía de formación. El estudio se llevó a cabo teniendo en cuenta la información reportada en la literatura para la formación de hidruros volátiles, con el fin de contribuir a nuevos estudios relacionados con aspectos fundamentales en el ámbito de la generación de vapor químico. El mecanismo del hidrógeno naciente demostró no ser viable con la química de los tetrahidroboranos. La formación de hidruros termodinámicamente estables por la reacción con el intermediario propuesto sigue la tendencia en términos de estabilidad de: Ge> Sn> Pb, As> Sb> Bi; y Se> Te.